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    EUV光源的技术基本只掌握在花旗国    Cymer公司手中，星光科技公司作为一家华夏公司，基本上不可能与対方达成技术合作，因为花旗国政府，就不会同意。

    EUV光刻机——顶级科学与顶级制造的结合。

    EUV波长只有13.5nm，穿透物体时散射吸收强度较大，这使得光刻机的光源功率要求极高，此外机器内部需是真空环境，避免空气对EUV的吸收，透镜和反射镜系统也极致精密，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也需要更先进技术去提升。

    一台EUV光刻机重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间。总之，EUV光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。

    所以EUV不仅是顶级科学的研究，也是顶级精密制造的学问。

    二零一零年首发EUV光刻机，目前成为全球唯一一家EUV光刻机供应商。

    二零一零年，阿斯慢首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100，从而开启光刻系统的新时代。

    二零一三年，阿斯慢发售第二代EUV系统NXE:3300B，但是精度与效率不具备10纳米以下制程的生产效益。

    今年又推出了第三代EUV系统NXE:3350，但仍然只是试产的性质。

    历史上，阿斯慢公司要到明年，也就是二零一六年，第一批面向制造的EUV系统NXE:3400B，才会开始批量发售，

    NXE:3400B的光学与机电系统的技术有所突破，极紫外光源的波长缩短至13nm，每小时处理晶圆125片，或每天可1500片。

    连续4周的平均生产良率可达80%，兼具高生产率与高精度。

    三年后推出的NXE:3400C，更是将产能提高到每小时处理晶圆175片。

    目前，阿斯慢在售的EUV光刻机包括NXE:3300B和NXE:3400C两种机型。

    EUV成功来源于阿斯慢光刻机上游产业链的贯通。
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